Mikroskopija Elettroniċi Avvanzata Għax-Xjenza tal-Materjali
Feb 18, 2024
3. Estensjoni ta' Studji In Situ dwar Moviment Kollettiv ta' Elettroni Sekondarji
Ibbażat fuq dawn l-istudji dwar id-distribuzzjoni ta 'elettroni sekondarji fuq il-films iżolanti ċċarġjati, jistgħu jsiru esperimenti in situ biex tiġi investigata l-interazzjoni ta' kampjuni iżolanti. Il-Figura 5 turi r-riżultati ta 'studju in situ tal-varjazzjonijiet tal-kamp elettriku u l-bidla fid-distribuzzjoni sekondarja tal-elettroni bejn żewġ materjali iżolanti: pilastru kwadru ta' reżina epossidika mħejjija bil-metodu FIB b'jonji Ga +, usaffi tessut tal-kliewiinkorporat fir-reżina epoxy u ppreparat permezz ta’ mikrotomija.70) Il-konfigurazzjonijiet ġeometriċi tal-pilastru kwadru ulaqx tal-kliewihuma murija fil-Figura 5(c). Il-pilastru kwadru tar-reżina epossidika ssettjat fis-sonda tas-sewqan pjeżo ta’ detentur ta’ kampjun TEM56) resaq lejn il-laqx tal-kliewigradwalment.
Servizz ta 'Appoġġ Ta' Wecistanche-L-akbar esportatur ta' cistanche fiċ-Ċina:
Email:wallence.suen@wecistanche.com
Whatsapp/Tel:+86 15292862950
Shop Għal Aktar Speċifikazzjonijiet Dettalji:
https://www.xjcistanche.com/cistanche-shop
Agħfas HAWN BIEX IKseb ESTRAT TA' CISTANCHE ORGANIKU NATURALI B'25% ECHINACOSIDE U 9% ACTEOSIDE GĦALL-FUNZJONI TAL-KLIEI
Fl-immaġini tal-fażi rikostruwit ta 'Fig. 5 (a), minħabba l-irradjazzjoni reċiproka b'elettroni sekondarji, il-potenzjal elettriku taż-żewġ kampjuni jonqos hekk kif tonqos is-separazzjoni tagħhom. Fl-immaġini ta 'amplitudni rikostruwiti f'Fig. 5 (b), reġjuni ta' kulur aħmar u isfar huma osservati madwar il-laqx tal-kliewiiżda mhux madwar il-pilastru kwadru, li huwa konsistenti mal-osservazzjonijiet ippreżentati fil-Fig. 4. Meta s-separazzjoni tal-kampjuni waqgħet taħt bejn wieħed u ieħor 1 µm, il-biċċa l-kbira tar-reġjuni ta 'kulur aħmar u isfar sparixxew, li jindika tnaqqis fin-numru ta' elettroni sekondarji madwar il-flake tal-kliewi. Madankollu, reġjuni ta 'kulur ħażin jibqgħu fir-reġjun ta' isfel tal-lemin, xi distanza mill-pilastru tar-reżina epoxy. Il-viżibiltajiet tat-truf ta' interferenza fiż-żewġ reġjuni kwadri ħodor "f" u isfar "e" indikati fl-immaġini l-aktar fuq ix-xellug tal-Fig. 5(a) huma mqabbla bħala funzjonijiet tas-separazzjoni bejn il-kampjuni, kif muri fil-Fig. 5( d), hekk kif il-pilastru jimxi lejn ( ) jew 'il bogħod minn ( ) illaqx tal-kliewi. Żieda prominenti fil-viżibilità hija osservata fil-kwadru isfar ħdejn il-flake tal-kliewi meta l-pilastru kwadru tar-reżina epoxy jersaq lejn il-wiċċ tal-flake tal-kliewi. It-tnaqqis fin-numru ta 'elettroni sekondarji fuq il-wiċċ tal-flake tal-kliewi jirriżulta mill-preżenza ta' saff konduttiv fuq il-wiċċ tar-reżina epoxy, li permezz tiegħu ġew trasferiti elettroni sekondarji.
Kif innutat, l-akkumulazzjoni u l-movimenti kollettivi ta 'elettroni madwar diversi iżolaturi ċċarġjati b'mod pożittiv ġew osservati permezz tal-proċess ta' rikostruzzjoni tal-amplitudni fl-olografija tal-elettroni. Dawk l-esperimenti twettqu minn TEM b'wiċċ irqiq tal-kampjun iżolanti. Hawnhekk, nuru li effetti simili ta 'elettroni sekondarji, li huma attirati anke għal uċuħ bl-ingrossa ta' iżolaturi, jistgħu jiġu osservati permezz ta 'mikroskopija tal-jone tal-iskannjar (SIM) b'sistema FIB. Il-karatteristika komuni tal-fenomeni osservati minn TEM u SIM hija l-effett pożittiv tal-iċċarġjar tal-iżolaturi. Fil-każ tal-aħħar, waqt l-osservazzjonijiet tas-SIM, tintuża sonda Ga{{0}}jone biex tiskennja l-wiċċ tal-iżolatur tal-massa. F'kull punt fiż-żona skennjata, elettroni sekondarji huma emessi mill-wiċċ tal-massa, filwaqt li l-joni Ga + jakkumulaw fil-kampjun tal-massa, li jirriżulta f'iċċarġjar pożittiv. Il-Figura 6 turi kampjun bl-ingrossa li fih il-gżejjer W ġew depożitati fuq sottostrat tal-majka biex jiffurmaw il-karattru "e" u simbolu minus superscript, "¹". Il-Figura 6(a) tikkorrispondi għall-istat inizjali fejn il-gżejjer W ma jintmissux mill-labra tas-sonda +5 V-biased. Meta s-sonda mess waħda mill-gżejjer, "¹", il-gżira l-oħra, "e", saret ukoll isbaħ (Fig. 6(b)), li timplika t-trasferiment tal-ħlas mill-gżira "¹" għall-gżira "e" b' l-eżistenza ta 'elementi metalliċi Ga u W fuq is-sottostrat tal-majka bħall-każ tal-film irqiq epossidiku fil-Fig. 4. L-eżistenza ta' W tirriżulta mit-tixrid tagħha matul il-proċess ta 'depożizzjoni. Meta s-sonda kkuntattjat direttament il-karattru "e", saret ħafna isbaħ (Fig. 6(c)). Min-naħa l-oħra, f'Fig. 6(d), il-karattru "¹" reġa' sar isbaħ meta jintmess mis-sonda iżda l-"e" ma sarx qawwi. L-osservazzjoni SIM kompliet għal 48 s minn xena (b) għal xena (d), u d-doża nominali Ga+ matul dan il-perjodu kienet 0.027 (C m¹2 ) jew 0.17 (jone nm¹2 ). Fil-Fig. 6(d), huwa kkunsidrat li sputtering notevoli tal-wiċċ tal-kampjun minn jonji Ga + jirriżulta f'kundizzjonijiet tal-wiċċ differenti minn dawk tal-Fig. 6(b) u (c).
4. Sommarju
L-attività ta 'riċerka relatata mal-mikrostruttura u l-analiżi tal-kamp elettromanjetiku bl-użu tat-TEM tkompli tiżdied. Ix-xejriet il-ġodda f'dawn l-analiżi tal-mikrostruttura u l-kamp elettromanjetiku ġew diskussi fis-27 Laqgħa tas-Soċjetà tar-Riċerka tax-Xjenza u l-Inġinerija tal-Materjali, li saret fl-Istitut tar-Riċerka Multidixxiplinarja għal Materjali Avvanzati, l-Università ta 'Tohoku, bit-tema ta' "Xejriet riċenti fil-Proprjetajiet tal-Materjali u Tekniki tal-Mikroskopija". Ibbażat fuq din il-laqgħa, xi xejriet reċenti relatati ma 'analiżi TEM ġew ippubblikati f'Ottubru 2019 f'ħarġa speċjali ta' Tranżazzjonijiet ta 'Materjali (Vol. 60, Nru 10) taħt it-titlu "Żvilupp u Applikazzjoni ta' Tekniki Avvanzati ta 'Mikroskopija Elettroniċi għax-Xjenza tal-Materjali". Bħala estensjoni tal-olografija tal-elettroni fuq elettroni sekondarji madwar kampjuni iżolanti ċċarġjati, l-interazzjoni bejn kampjuni bħal dawn ġiet iċċarata permezz ta 'esperimenti in situ. Barra minn hekk, effetti simili ta 'elettroni sekondarji, li huma attirati lejn il-wiċċ tal-massa ta' iżolaturi, ġew osservati wkoll minn SIM b'sistema FIB. Dawn l-esperimenti in situ fuq distribuzzjonijiet ta 'elettroni sekondarji huma mistennija li jitwettqu b'mod wiesa' u analizzati kwantitattivament dalwaqt.
REFERENZI
1) JM Cowley:Fiżika tad-diffrazzjoni, (North-Holland, New York, 1990).
2) S. Horiuchi:Fundamenti tal-HREM, (L-Olanda ta’ Fuq, Amsterdam, 1994).
3) JCH Spence:Mikroskopija Elettroniċi Sperimentali b'Riżoluzzjoni Għolja, (Oxford University Press, New York, 1988).
4) D. Shindo u K. Hiraga:Mikroskopija Elettronika b'Riżoluzzjoni Għolja Għax-Xjenza tal-Materjali, (Springer, Tokyo, 1998).
5) JCH Spence:Mater. Sci. Inġ. R26 (1999) 149.
6) SJ Pennycook, SD Berger u RJ Culbertson:J. Mikroskopija144 (1986) 229249.
7) S. Morishita, R. Ishikawa, Y. Kohno, H. Sawada, N. Shibata, u Y. Ikuhara:Mikroskopija67 (2018) 4650.
8) N. Shibata, T. Seki, G. Sánchez-Santolino, SD Findlay, Y. Kohno, T. Matsumoto, R. Ishikawa, u Y. Ikuhara:Nat. Komun.8 (2017) 15631.
9) N. Shibata, Y. Kohno, A. Nakamura, S. Morishita, T. Seki, A. Kumamoto, H. Sawada, T. Matsumoto, SD Findlay u Y. Ikuhara:Nat. Komun.10 (2019) 2308.
10) A. Tonomura:Holografija Elettroniċi, it-2 ed., (Springer-Verlag, Berlin, 1999).
11) H. Lichte u M. Lehmann:Rep Prog. Phys.71 (2007) 016102.
12) E. Völkl, LF Allard u DC Joy:Introduzzjoni għall-Olografija Elettroniċi, (Springer Science & Business Media, Berlin, 1999). 13) MR McCartney u DJ Smith:Annu. Dun Mater. Res.37 (2007) 729767.
